ZnGa2O4納米晶的制備和結構表征

采用噴射共沉淀法制備了ZnGa2O4納米晶.XRD、SEM和TEM結構分析結果表明,噴射共沉淀法制備的Zn-Ga2O4納米晶顆粒細小均勻,形狀完整.與化學共沉淀法相比,粒子尺寸明顯減小,小于10nm,同時ZnO雜相峰消失.分析了噴射共沉淀法的機理,并對實驗結果進行了解釋.

作 者： 焦正 劉錦淮 邊歷峰 錢逸泰   作者單位： 焦正,錢逸泰(中國科學技術大學化學系,安徽,合肥,230061)

劉錦淮,邊歷峰(中國科學院合肥智能機械研究所,安徽,合肥,230031) 

刊 名： 功能材料  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS  年，卷(期)： 2002 33(6)  分類號： O647.11  關鍵詞： 化學共沉淀   納米晶   ZnGa2O4  

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