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離子束增強(qiáng)沉積合成ZrN/W納米多層膜
利用離子束增強(qiáng)沉積方法在室溫和不同能量的氮離子轟擊條件下制備了不同調(diào)制周期的ZrN/W納米多層膜. 利用XRD, AES和納米壓痕儀分析了調(diào)制周期和離子轟擊能量對薄膜結(jié)構(gòu)和機(jī)械性能的影響, 結(jié)果表明多層膜的機(jī)械性能基本都優(yōu)于單質(zhì)的ZrN或W薄膜. 和其他制備條件相比, 在300 eV能量的氮離子轟擊下制備的調(diào)制周期為 8～9 nm的多層膜, 其結(jié)構(gòu)中出現(xiàn)了強(qiáng)的 ZrN(111), W(110)和 ZrN(220)織構(gòu)的混合, 它的硬度和彈性模量分別達(dá)到 26 和 310 GPa, 也展示了較高的耐磨性.
作 者： 李德軍 張晶晶 鄧湘云 王明霞 作者單位： 天津師范大學(xué)物理與電子信息學(xué)院,天津,300000 刊 名： 中國科學(xué)E輯 ISTIC PKU 英文刊名： SCIENCE IN CHINA(SERIES E) 年，卷(期)： 2007 37(11) 分類號： O6 關(guān)鍵詞： 離子束增強(qiáng)沉積 ZrN/W 多層膜 納米尺度【離子束增強(qiáng)沉積合成ZrN/W納米多層膜】相關(guān)文章：
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