痕量镎和钚的ICP-MS分析方法

經(jīng)TOA萃取色層柱分離環(huán)境樣品,2次上柱,將Np和Pu同時洗脫,239Pu的化學回收率為 (92.7±3.1)%,237Np為(96.8±2.7)%,實現(xiàn)了ICP-MS同時測定痕量Np和Pu的含量.應用稀釋劑242Pu,通過同位素稀釋ICP-MS法測量痕量239Pu和240Pu的含量,用IAEA標樣對方法進行驗證,Pu 的測定值與標樣的推薦值吻合較好(標樣中無Np的標準值),證明了ICP-MS同時測定痕量Np和Pu的可行性.

作 者： 吉艷琴 李金英 JI Yan-qin LI Jin-ying   作者單位： 吉艷琴,JI Yan-qin(中國疾病預防控制中心,輻射防護與核安全醫(yī)學所,北京,100088)

李金英,LI Jin-ying(中國核工業(yè)集團公司,北京,100822) 

刊 名： 核化學與放射化學  ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF NUCLEAR AND RADIOCHEMISTRY  年，卷(期)： 2008 30(2)  分類號： O657.63  關鍵詞： 電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)   環(huán)境樣品   痕量   镎   钚   同位素稀釋法  

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