- 相關(guān)推薦
全息光柵光刻膠掩模槽形演化及其規(guī)律研究
為了控制全息光柵光刻膠掩模槽形,運用曝光模型和顯影模型模擬了掩模的槽形形成過程和變化規(guī)律.實驗對比了不同曝光量,不同顯影濃度,不同空頻條件下的掩模槽形,特別是占寬比(光柵齒寬度與光柵周期的比)的情況.實驗結(jié)果表明,實際槽形與模擬槽形很接近.模擬和實驗均發(fā)現(xiàn),在大曝光量、高濃度顯影、高空頻的光柵條件下所得槽形占寬比較小,槽深主要由原始膠厚決定.
作 者: 陳剛 吳建宏 劉全 CHEN Gang WU Jiang-hong LIU Quan 作者單位: 陳剛,CHEN Gang(南京信息職業(yè)技術(shù)學(xué)院,微電子工程系,南京,210046)吳建宏,劉全,WU Jiang-hong,LIU Quan(蘇州大學(xué),信息光學(xué)工程研究所,江蘇,蘇州,215006)
刊 名: 光學(xué)技術(shù) ISTIC PKU 英文刊名: OPTICAL TECHNIQUE 年,卷(期): 2008 34(1) 分類號: O436.1 關(guān)鍵詞: 衍射光柵 全息光柵掩模 槽形模擬 占寬比控制【全息光柵光刻膠掩模槽形演化及其規(guī)律研究】相關(guān)文章:
人工自然及其演化研究04-26
嵌入式光纖光柵傳感器應(yīng)力傳遞規(guī)律研究04-26
佛教鏡喻及其生成演化04-26
新型聚氨酯微球制備及其藥物釋放規(guī)律的研究04-27
兩種不同槽形氣體端面密封泄漏量的試驗研究04-27
用DMD光學(xué)再現(xiàn)全息圖的研究04-26
松潘黃龍鈣華演化趨勢研究04-27