N2分子在強(qiáng)激光場(chǎng)中的場(chǎng)致電離

研究了在強(qiáng)激光脈沖中各種不同取向的N2分子發(fā)生場(chǎng)致電離的電離幾率和表觀電離效率. 用量子化學(xué)方法計(jì)算了N+2分子離子在各種不同取向上的勢(shì)能曲線, 然后用傳遞矩陣方法得到了N2分子在不同方向上的電離幾率, 經(jīng)過角度平均之后得到了各種取向的所有N2分子的總電離幾率, 并對(duì)計(jì)算結(jié)果進(jìn)行了激光時(shí)間和空間修正. 用800 nm和70 fs的激光脈沖對(duì)N2分子進(jìn)行了在強(qiáng)激光場(chǎng)中的電離實(shí)驗(yàn), 得到了N2分子電離后產(chǎn)生的電子的角度分布圖和電離幾率隨激光功率密度變化的關(guān)系曲線. 實(shí)驗(yàn)結(jié)果和理論計(jì)算結(jié)果符合得很好.

作 者： 高麗蓉 王威 王素凡 孔繁敖   作者單位： 中國(guó)科學(xué)院化學(xué)研究所,北京,100080  刊 名： 高等學(xué)�；瘜W(xué)學(xué)報(bào)  ISTIC SCI PKU 英文刊名： CHEMICAL JOURNAL OF CHINESE UNIVERSITIES  年，卷(期)： 2004 25(1)  分類號(hào)： O641  關(guān)鍵詞： 強(qiáng)激光場(chǎng)   電離   N2  

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