顱腦創(chuàng)傷近紅外實時監(jiān)測技術研究

摘要：采用一套專門設計的由微創(chuàng)光纖探頭組成的光纖光譜儀生物組織光學參數(shù)測試系統(tǒng),對顱腦創(chuàng)傷的大鼠創(chuàng)傷側和對照側進行近紅外光譜檢測及腦水含量(brain water content:BWC)測定.通過采用Feeneys自由落體撞擊法建立大鼠急性局灶性腦挫裂傷模型,以近紅外光譜技術和干濕比重法監(jiān)測傷后腦水腫的變化.實驗發(fā)現(xiàn):傷后1 h,傷側腦組織已發(fā)生水腫,傷后24～72 h,傷側腦水腫達高峰,隨后逐漸下降;用脫水劑后,腦水腫情況逐漸好轉,隨著藥物失效,水腫又一次發(fā)生.生物組織優(yōu)化散射系數(shù)(Reduced Scat-tering Coefficient:μs)與Bwc的變化規(guī)律一致,有很好的線性相關性,能夠較好的反映腦組織水腫程度以及藥物脫水效果.證實近紅外光譜技術用于顱腦創(chuàng)傷實時監(jiān)測的可行性,為顱腦創(chuàng)傷的研究提出了一種新技術. 作者： 毛雯嵐[1]錢志余[1]楊天明[1]何亮[2]郭麗娜[1]吳琦[2] Author： MAP Wen-lan[1]  QIAN Zhi-yu[1]  YANG Tian-ming[1]  HE Liang[2]  GUO Li-na[1]  WU Qi[2] 作者單位： 南京航空航天大學生物醫(yī)學工程系,江蘇,南京,210016東南大學附屬中大醫(yī)院神經外科,江蘇,南京,210009 期 刊： 光譜學與光譜分析   ISTICEISCIPKU Journal： SPECTROSCOPY AND SPECTRAL ANALYSIS 年，卷(期)： 2009, 29(4) 分類號： Q63 關鍵詞： 近紅外光譜    優(yōu)化散射系數(shù)    創(chuàng)傷性腦水腫    腦水含量    機標分類號： TH7 TP2 機標關鍵詞： 顱腦創(chuàng)傷    近紅外光譜技術    實時監(jiān)測技術    Technology    Real-Time    腦水腫    生物組織    光學參數(shù)測試系統(tǒng)    近紅外光譜檢測    water content    優(yōu)化散射系數(shù)    腦組織水腫    線性相關性    光纖光譜儀    自由落體    專門設計    藥物    脫水效果    腦水含量    腦挫裂傷 基金項目： 國家自然科學基金

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