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復合插層有機蒙脫土的制備及表征
以鈉基蒙脫土、十六烷基三甲基溴化銨(CTAB)和己內(nèi)酰胺為原料,制備了復合插層有機蒙脫土.紅外光譜分析(IR)、熱重分析(TGA)和X-射線衍射分析(XRD)表明,有機插層劑已進入蒙脫土的層間,CTAB/己內(nèi)酰胺復合插層有機蒙脫土的層間距大于單陽離子CTAB插層有機蒙脫土的層間距.Molau實驗結(jié)果表明,這種有機蒙脫土在有機介質(zhì)中表現(xiàn)出很好的分散性.
作 者： 李風起 LI Feng-qi 作者單位： 青島科技大學,化學與分子工程學院,山東,青島,266042 刊 名： 應用化工 ISTIC 英文刊名： APPLIED CHEMICAL INDUSTRY 年，卷(期)： 2009 38(9) 分類號： O633.14 關鍵詞： 有機蒙脫土 季銨鹽 己內(nèi)酰胺 插層劑【復合插層有機蒙脫土的制備及表征】相關文章：
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