對(duì)激光燒蝕沉積Ag薄膜生長率和環(huán)境氣壓關(guān)系的理論解析

為了對(duì)激光燒蝕沉積Ag薄膜生長率和環(huán)境氣壓關(guān)系進(jìn)行定量解釋,考慮燒蝕產(chǎn)物在惰性氣體環(huán)境中的動(dòng)力學(xué)過程以及薄膜生長的沉積和二次濺射過程,并假定二次濺射幾率正比于入射粒子的動(dòng)能,建立了激光燒蝕沉積納米薄膜生長的動(dòng)力學(xué)模型.定量地解釋了T.Scharf等人在惰性氣體He,Ne,Ar,Xe環(huán)境下燒蝕沉積Ag膜的實(shí)驗(yàn)結(jié)果,所出現(xiàn)偏差乃計(jì)及大顆粒所致.

作 者： 王英龍 周陽 傅廣生 彭英才 褚立志 張榮梅   作者單位： 河北大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,河北,保定,07l002  刊 名： 中國激光  ISTIC EI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LASERS  年，卷(期)： 2004 31(z1)  分類號(hào)： O484.1  關(guān)鍵詞： 薄膜物理學(xué)   Ag薄膜沉積   脈沖激光燒蝕  

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