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激光等離子體效應(yīng)對(duì)硅表面損傷特征的影響
摘要：硅材料作為光電探測(cè)器的基礎(chǔ)材料,研究其在強(qiáng)激光輻照下的損傷問(wèn)題在激光探測(cè)、國(guó)防領(lǐng)域很有意義.對(duì)高強(qiáng)度納秒激光作用下硅表面的損傷形貌特征進(jìn)行了研究,結(jié)果表明:激光等離子體的熱效應(yīng)及沖擊波效應(yīng),使激光作用區(qū)域內(nèi)的物質(zhì)迅速向外飛濺,形成點(diǎn)坑,并在點(diǎn)坑周?chē)纬奢椛錉罾鋮s物；散射光與入射激光干涉產(chǎn)生形成周期性分布的熱應(yīng)力使得硅材料表面張力發(fā)生變化,冷卻后會(huì)在坑底表面產(chǎn)生周期性結(jié)構(gòu)；從激光等離子體的光譜中可以發(fā)現(xiàn)N,O和si的特征光譜,在重復(fù)激光脈沖作用下會(huì)在硅表面上覆蓋一層導(dǎo)致色變的SiOx和SiNx復(fù)合薄膜,是激光等離子體的噴射產(chǎn)物. 作者： 范衛(wèi)星[1] 韓敬華[2] 李海波[3] 楊李茗[3] 馮國(guó)英[2] 高翔[2] 劉巖巖[2] 包凌東[2] 黃永忠[2] Author： FAN Wei-xing[1] HAN Jing-hua[2] LI Hai-bo[3] YANG Li-ming[3] FENG Guo-ying[2] GAO Xiang[2] LIU Yan-yan[2] BAO Ling-dong[2] HUANG Yong-zhong[2] 作者單位： 四川大學(xué)電子信息學(xué)院,四川成都610064;奧普鍍膜技術(shù)(廣州)有限公司,廣東廣州510730四川大學(xué)電子信息學(xué)院,四川成都,610064成都精密光學(xué)工程研究中心,四川成都,610041 期 刊： 光譜學(xué)與光譜分析 ISTICEISCIPKU Journal： Spectroscopy and Spectral Analysis 年，卷(期)： 2011, 31(12) 分類(lèi)號(hào)： O539 關(guān)鍵詞： 激光等離子體 多晶硅 激光誘導(dǎo)損傷 周期性結(jié)構(gòu) 機(jī)標(biāo)分類(lèi)號(hào)： TP2 TN7 機(jī)標(biāo)關(guān)鍵詞： 激光等離子體 體效應(yīng) 硅表面 損傷特征 Silicon Surface Laser Plasma 激光作用 周期性結(jié)構(gòu) 硅材料 強(qiáng)激光輻照 光電探測(cè)器 沖擊波效應(yīng) 作用區(qū)域 形貌特征 特征光譜 脈沖作用 冷卻 激光探測(cè) 激光干涉 基礎(chǔ)材料 基金項(xiàng)目： 國(guó)家自然科學(xué)基金重大項(xiàng)目，國(guó)家自然學(xué)基金委員會(huì)-中國(guó)工程物理研究院聯(lián)合基金，四川大學(xué)青年教師科研啟動(dòng)基金 激光等離子體效應(yīng)對(duì)硅表面損傷特征的影響[期刊論文] 光譜學(xué)與光譜分析 --2011, 31(12)范衛(wèi)星 韓敬華 李海波 楊李茗 馮國(guó)英 高翔 劉巖巖 包凌東 黃永忠硅材料作為光電探測(cè)器的基礎(chǔ)材料,研究其在強(qiáng)激光輻照下的損傷問(wèn)題在激光探測(cè)、國(guó)防領(lǐng)域很有意義.對(duì)高強(qiáng)度納秒激光作用下硅表面的損傷形貌特征進(jìn)行了研究,結(jié)果表明:激光等離子體的熱效應(yīng)及沖擊波效應(yīng),使激光作用區(qū)域內(nèi)的...【激光等離子體效應(yīng)對(duì)硅表面損傷特征的影響】相關(guān)文章：
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